凯世通秉持自主创新的研发理念，致力于实现离子注入机关键技术自主可控。此次获奖项目所研发的低能大束流离子注入机系列设备是制造逻辑芯片、DRAM存储芯片、功率器件、CIS芯片的核心设备，设备性能与稳定性表现卓越，实现了集成电路重大装备产业化突破。

针对离子注入实际生产过程中亟需突破的关键工程技术问题，凯世通创新构建了包括基础研究和应用技术在内的“通用平台+关键技术模块+系统集成+应用技术”完整技术体系，形成了一系列高价值的自主知识产权成果，包括成功解决了芯片制造中低能量条件下的超大剂量注入问题，降低了制造成本；完成了颗粒污染源头控制技术，大幅提高了良率，取得重要工艺突破等。目前凯世通已打造出多款离子注入机标杆项目，在国内主流12英寸晶圆厂实现了产业化并收获了批量重复订单。随着产业化进程加快，凯世通持续提升产能，增强服务客户能力。

人才是引领发展的第一资源，创新是推动科技进步的不竭动力。凯世通打造了一支技艺精湛、勇于创新的技术研发团队，采用“领先一步”的研发策略，不断攻坚克难，推动技术创新与产品迭代。夏世伟表示，此次获奖是凯世通研发团队辛苦付出、持续拼搏的结果，凯世通坚持正向设计、创新突破，紧密结合世界前沿科技与产业需求，持续创新推动离子注入机原创性、引领性科技攻关，不断强化技术优势，持续为客户提供性能卓越、稳定可靠、降本增效的先进设备和工艺解决方案，努力服务国家集成电路产业高质量发展。

面向未来，凯世通将继续秉持锐意进取、勇攀高峰的决心，大力培育发展新质生产力，持续深化技术创新与产业升级，助力上海科技创新中心建设，不断为实现高水平科技自立自强做出更大贡献。